von Thomas Bordelet Vor 6 Jahren
105
Mehr dazu
rapport atome dopant / atome de silicium
1 pour 10^6
Purification
3/ Méthode de Czochralski
2/ Attaque au HCl
1/ SiO2 dans un four à arc électrique
facilement conducteur par excitation
Silicium 2ème niveau présence sur Terre après O
semi-conducteur
CFC
dopage P possible
Phosphore (colonne 15)
Dopage N possible
Bore (colonne 13)